基本信息
| 标准名称： | 高纯砷化学分析方法 电感耦合等离子体质谱法（ICP-MS）测定高纯砷中杂质含量 |
| 英文名称： | Method for chemical analysis of the high-purity arsenic—Inductive coupling plasma mass spectrum (ICP-MS) for determinating the concentration of elements in the high-purity arsenic |
| 中标分类： | 冶金 >> 金属化学分析方法 >> 半金属及半导体材料分析方法 |
| ICS分类： | 冶金 >> 金属材料试验 >> 金属材料化学分析 |
| 替代情况： | 替代YS/T 34.1～34.2-1992 |
| 发布部门： | 中华人民共和国工业和信息化部 |
| 发布日期： | 2011-12-20 |
| 实施日期： | 2012-07-01 |
| 首发日期： | |
| 作废日期： | |
| 主管部门： | 全国有色金属标准化技术委员会 |
| 归口单位： | 全国有色金属标准化技术委员会 |
| 起草单位： | 峨嵋半导体材料厂、峨眉山嘉美高纯材料有限公司 |
| 起草人： | 程高明、邹同贵、文英、唐云博、廖敏 |
| 出版社： | 中国标准出版社 |
| 出版日期： | 2012-07-01 |
| 页数： | 12页 |
适用范围
本标准规定了高纯砷中金属杂质含量的测定方法，采用电感耦合等离子质谱法测定砷中镁、铬、镍、铜、锌、银、锑、铅、铋、钠、钾、铝、钙、铁等14个杂质含量。
本标准适用于99.999%～99.99999%高纯砷中金属杂质含量的测定。测定范围1×10-7% ～1000×10-7% 。
前言
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目录
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引用标准
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所属分类： 冶金 金属化学分析方法 半金属及半导体材料分析方法 冶金 金属材料试验 金属材料化学分析